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企業使命

- 建立世界領先的薄膜設備

- 開發最先進的科技

- 提供最有競爭力的產品

- 培養國內新一代人才

- 建立健康向上的企業文化

  沈陽拓荊科技有限成立於2010年4月,是由海外專家團隊和中科院所屬企業共同發起成立的國家高新技術企業。拓荊致力於研究和生產世界領先的薄膜設備,兩次承擔國家科技重大專項。2016年、2017年連續兩年獲評“中國半導體設備五強企業”。

  擁有12英寸PECVD(等離子體化學氣相沉積設備)、ALD(原子層薄膜沉積設備)、3D NAND PECVD(三維結構閃存專用PECVD設備)三個完整係列產品,技術指標達到國際先進水平。產品廣泛應用於集成電路前道和後道、TSV封裝、光波導、LED、3D-NAND閃存、OLED顯示等高端技術領域。在北京、天津、廈門、武漢、深圳、合肥、重慶、長三角等地區都設有技術服務中心,為客戶提供每周7天,每天24小時的技術服務。

  現有員工總數近300人,其中本科以上員工占總數90%,碩士以上員工占總數的41%。擁有國際一流的專家團隊,現有14名海外專家。產品擁有100%自主知識產權,現已申請專利近300項,填補了國內該技術領域多項空白,2017年獲評為國家知識產權優勢企業。

  總部坐落於沈陽市渾南區,占地80畝,擁有現代化辦公大樓及高等級潔淨廠房,總建築麵積達40,000平方米。第一期生產能力可實現年產100台套,全部投產可達350台套設備,支撐年產值50億元的產業規模。營運已通過ISO9001、ISO14001、OHSAS18001體係的認證,並擁有覆蓋全球的供應商網絡。

  拓荊願與業界夥伴建立真誠、友好、共贏的產業合作聯盟,為中國及世界半導體產業的發展做出貢獻。

中國大陸 - 占比72%

亞洲 - 占比13%

北美 - 占比12%

歐洲 - 占比2%

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企業使命

- 建立世界領先的薄膜設備
- 開發最先進的科技
- 提供最有競爭力的產品
- 培養國內新一代人才
- 建立健康向上的企業文化

  沈陽拓荊科技有限成立於2010年4月,是由海外專家團隊和中科院所屬企業共同發起成立的國家高新技術企業。拓荊致力於研究和生產世界領先的薄膜設備,兩次承擔國家科技重大專項。2016年、2017年連續兩年獲評“中國半導體設備五強企業”。

  擁有12英寸PECVD(等離子體化學氣相沉積設備)、ALD(原子層薄膜沉積設備)、3D NAND PECVD(三維結構閃存專用PECVD設備)三個完整係列產品,技術指標達到國際先進水平。產品廣泛應用於集成電路前道和後道、TSV封裝、光波導、LED、3D-NAND閃存、OLED顯示等高端技術領域。在北京、天津、廈門、武漢、深圳、合肥、重慶、長三角等地區都設有技術服務中心,為客戶提供每周7天,每天24小時的技術服務。

  現有員工總數近300人,其中本科以上員工占總數90%,碩士以上員工占總數的41%。擁有國際一流的專家團隊,現有14名海外專家。產品擁有100%自主知識產權,現已申請專利近300項,填補了國內該技術領域多項空白,2017年獲評為國家知識產權優勢企業。

  總部坐落於沈陽市渾南區,占地80畝,擁有現代化辦公大樓及高等級潔淨廠房,總建築麵積達40,000平方米。第一期生產能力可實現年產100台套,全部投產可達350台套設備,支撐年產值50億元的產業規模。營運已通過ISO9001、ISO14001、OHSAS18001體係的認證,並擁有覆蓋全球的供應商網絡。

  拓荊願與業界夥伴建立真誠、友好、共贏的產業合作聯盟,為中國及世界半導體產業的發展做出貢獻。

©2018 拓荊科技 遼ICP備05007152號

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